SPC培訓(xùn)教程

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SPC培訓(xùn)教程

一、持續(xù)改進(jìn)及統(tǒng)計(jì)過程控制概述
二、SPC基礎(chǔ)
三、計(jì)數(shù)型數(shù)據(jù)控制圖
產(chǎn)品質(zhì)量波動(dòng)及其統(tǒng)計(jì)描述
變 異
誤差 =X-X0
偶然性誤差:誤差大小和方向的變化是隨機(jī)的。
系統(tǒng)性誤差:誤差大小和方向的變化保持不變或按一定規(guī)律變化。
過程控制中常用精度這個(gè)概念來反映質(zhì)量的波動(dòng)(變異)程度。

精 度
精度又可分為:
準(zhǔn)確度(Accuracy):
反映系統(tǒng)誤差的影響程度;
精密度(Precision):
反映偶然誤差的影響程度;
精確度(Uncertainty):
反映系統(tǒng)誤差和偶然誤差綜合的影響程度
精度的概念
持續(xù)改進(jìn)及統(tǒng)計(jì)過程控制概述
預(yù)防與檢測
過程控制系統(tǒng)
變差:普通原因及特殊原因
局部措施和對系統(tǒng)采取措施
過程控制和過程能力
過程改進(jìn)循環(huán)及過程控制
控制圖:過程控制工具
控制圖的益處
持續(xù)改進(jìn)及統(tǒng)計(jì)過程控制概述之一 檢測與預(yù)防
過程控制的需要
檢測—容忍浪費(fèi)
預(yù)防—避免浪費(fèi)
持續(xù)改進(jìn)及統(tǒng)計(jì)過程控制概述之二 過程控制系統(tǒng)
持續(xù)改進(jìn)及統(tǒng)計(jì)過程控制概述之三 變差的普通原因及特殊原因
SPC基礎(chǔ)
SPC (Statistical Process Control)
統(tǒng)計(jì)過程控制:利用統(tǒng)計(jì)技術(shù)對過程中的各個(gè)階段進(jìn)行監(jiān)控,從而得到保證產(chǎn)品質(zhì)量的目的。
二十世紀(jì)二十年代美國休哈特(W.A.Shewhart)首創(chuàng)過程控制(Process Control)理論極其監(jiān)控過程的工具—控制圖(Control Chart)形成SPC的基礎(chǔ),后擴(kuò)展到任何可以應(yīng)用的數(shù)理統(tǒng)計(jì)方法。
控制圖(Control Chart):對過程質(zhì)量特性記錄評估,以監(jiān)察過程是否處于受控狀態(tài)的一種統(tǒng)計(jì)方法圖。
1924年5月6日休哈特提出的不合格樣品率P控制圖為世界第一張控制圖。
產(chǎn)品質(zhì)量的統(tǒng)計(jì)觀點(diǎn)一
產(chǎn)品質(zhì)量具有變異性
影響產(chǎn)品質(zhì)量的因素有6M
Man: 人
Machine: 機(jī)
Material: 料
Method: 法
Mother-nature: 環(huán)
Measurement: 測
無論人類社會(huì)如何進(jìn)步發(fā)展,產(chǎn)品質(zhì)量不可能保持絕對恒定,一定具有變異性。
產(chǎn)品質(zhì)量的統(tǒng)計(jì)觀點(diǎn)二
產(chǎn)品質(zhì)量的變異具有統(tǒng)計(jì)規(guī)律性
確定性現(xiàn)象,確定性規(guī)律:在一定條件下,必然發(fā)生或不可能發(fā)生的事情。如一個(gè)大氣壓(760mm汞柱)下,H2O的變化規(guī)律。
溫度  0℃ 固體狀態(tài)
溫度 0 ℃< t < 100 ℃ 液體狀態(tài)
溫度  100 ℃ 氣體狀態(tài)
隨機(jī)現(xiàn)象,統(tǒng)計(jì)規(guī)律:在一定條件下事件可能發(fā)生也可能不發(fā)生的現(xiàn)象。如我們無法預(yù)知內(nèi)存電性能測試合格率大于99%,但大量統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)證明有99%的可能性大于99%。
正態(tài)分布
分布(distribution):用來描述隨機(jī)現(xiàn)象的統(tǒng)計(jì)規(guī)律,說明兩個(gè)問題:變異的幅度有多大;出現(xiàn)這么大幅度的概率。
計(jì)量特性值:如PCB金手指厚度、重量或時(shí)間等連續(xù)性數(shù)據(jù),最常見的是正態(tài)分布(normal distribution)。
計(jì)件特性值:如內(nèi)存合格/不合格兩種離散性數(shù)據(jù),最常見的是二項(xiàng)分布 (binomial distribution)。
計(jì)點(diǎn)特性值:如每條內(nèi)存上少錫點(diǎn)數(shù)等離散性數(shù)據(jù),最常見的是泊松分布(Poisson distribution)。
由于二項(xiàng)分布和泊松分布數(shù)據(jù)數(shù)理統(tǒng)計(jì)理論較復(fù)雜,以下討論以正態(tài)分布為例。
正態(tài)分布
直方圖(histogram):在橫軸上以樣本數(shù)據(jù)每組對應(yīng)的組距等距離線段為底,縱軸表示樣本數(shù)據(jù)落入相應(yīng)直方組的頻數(shù)的n個(gè)矩形所組成的圖形。如100條PCB金手指厚度,標(biāo)準(zhǔn)503.94。
正態(tài)分布
正態(tài)分布:直方圖所取得數(shù)據(jù)越多,分組越密,則直方圖就越趨近一條光滑的曲線。
正態(tài)分布特征
正態(tài)分布是一條曲線,討論起來不方便,故用其兩個(gè)參數(shù)描述其特征:
平均值(average)
標(biāo)準(zhǔn)差(standard deviation)
說明: (1)平方是為了避免正負(fù)抵消
(2)是求平均值
(3)是為了避免單位變化或無故放大
平均值對正態(tài)的曲線的影響
若平均值增大,則正態(tài)曲線往右移動(dòng),見‘
若平均值減小,則正態(tài)曲線往左移動(dòng),見“
正態(tài)分布平均值與標(biāo)準(zhǔn)差的關(guān)系
平均值與標(biāo)準(zhǔn)差是相互獨(dú)立的。無論平均值如何變化都不會(huì)改變正態(tài)分布的形狀,即標(biāo)準(zhǔn)差;無論標(biāo)準(zhǔn)差如何變化,也不會(huì)影響數(shù)據(jù)的對稱中心,即平均值。
標(biāo)準(zhǔn)差對正態(tài)曲線的影響
若標(biāo)準(zhǔn)差越大,則數(shù)據(jù)分布越分散,波動(dòng)范圍大;
若標(biāo)準(zhǔn)差越小,則數(shù)據(jù)分布越集中,波動(dòng)范圍小。
控制圖原理
3原則
不論與取值為何,只要上下限距中心值(平均值)的距離各為3  ,則產(chǎn)品質(zhì)量特征值落在范圍內(nèi)的為99.73%,這是數(shù)學(xué)計(jì)算的精確值,應(yīng)該牢牢記住。
產(chǎn)品質(zhì)量特征值落在[ -3  ,  +3  ]之外的概率為0.27%,其中單側(cè)的概率分別為0.135%。
休哈特正是據(jù)此發(fā)明了控制圖。

控制圖原理
控制圖的形成:
將正態(tài)分布圖按順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)90°,得到圖B;但圖B中上端數(shù)值大,不符合視角常規(guī),故再將圖前后旋轉(zhuǎn)180 ° ,得到圖C。圖C就是一張典型的控制圖——單值控制圖。圖中UCL=  +3為上控制限,CL= 為中心線,LCL=  -3為下控制限。
判異規(guī)則(一)
點(diǎn)出界就判異
如上圖第四點(diǎn)已超出UCL,故判斷過程異常。為什么?若過程正常,則點(diǎn)子超出UCL的概率為0.135%。若過程異常,值增大,分布曲線整體上移,則點(diǎn)子超出UCL的概率大大增加,可能是的幾十倍、幾百倍。在這兩種可能性中選擇一種,當(dāng)然選擇過程異常。
判異規(guī)則(二)
兩種錯(cuò)誤
虛發(fā)警報(bào)(false alarm):過程正常,但樣本正好抽到0.135%處,根據(jù)判異規(guī)則判定過程異常。通常這種錯(cuò)誤的概率記為。
漏發(fā)警報(bào)(alarm missing):過程異常,但樣本正好抽到仍位于控制界限以內(nèi),根據(jù)判異規(guī)則判定過程正常。通常這種錯(cuò)誤的概率為 。
判異準(zhǔn)則 Criteria for abnormality
點(diǎn)出界就判異;
雖然點(diǎn)均未出界,但界內(nèi)點(diǎn)排列不隨機(jī)就判異;
第二條準(zhǔn)則的具體模式理論上有無窮多種,但具有實(shí)際物理意義并被廣泛使用的有少數(shù)幾種。
常規(guī)休哈特控制圖
控制圖選用程序
計(jì)數(shù)型數(shù)據(jù)的控制圖
準(zhǔn)備工作
建立一個(gè)好的行動(dòng)環(huán)境
定義過程
確定要管理的特性
應(yīng)考慮
顧客的需求
當(dāng)前及潛在的問題領(lǐng)域
特性之間的關(guān)系
定義測量系統(tǒng),使之具有可操作性
使不必要的變差最小
計(jì)數(shù)型數(shù)據(jù)控制圖的種類
不合格品率p控制圖
不合格品數(shù)np控制圖
不合格數(shù)c控制圖
單位不合格數(shù)u控制圖
不合格率的p圖
數(shù)據(jù)收集
選擇子組的容量、頻率和數(shù)量
子組容量(n=50~200)
分組頻率
子組的數(shù)量(>25)
計(jì)算每個(gè)子組的不合格率(p)
記錄每個(gè)子組的下列值
被檢項(xiàng)目的數(shù)量——n
發(fā)現(xiàn)的不合格項(xiàng)目——np
計(jì)算不合格率p=np/p
選擇控制圖的坐標(biāo)刻度(1.5~2倍)
將不合格品率描繪在控制圖上
不合格率的p圖
計(jì)算控制界限
計(jì)算過程平均不合格品率
P=
計(jì)算上、下控制界限(UCL、LCL)
UCL=p+3
LCL=p-
畫線并標(biāo)注
過程平均——水平實(shí)線
控制線路(UCL、LCL)——水平虛線
、變化示意圖




X-R控制圖
計(jì)量值最常用、重要的控制圖
適用范圍廣:
X圖:
X正態(tài)X正態(tài)
X非正態(tài)近似正態(tài)(中心極限定理)
中心極限定理使得X圖廣為應(yīng)用。
R圖
通過計(jì)算機(jī)上的模擬試驗(yàn)證實(shí):只要X不是非常不對稱,則R的分布無大的變化。
X-R控制圖
靈敏度高
X圖:

X通過平均


R圖:無此優(yōu)點(diǎn)
X圖的控制線
設(shè)過程正常,x~N(,2)
則可證明 X~N((,2/n),n為樣本大小
若、已知,則X圖的控制線為
UCL=
CL
LCL

若、未知,則需對其進(jìn)行估計(jì),即
A.收集數(shù)據(jù)
A1 選擇子組大小、頻率和數(shù)據(jù)
A2 建立控制圖及記錄原始數(shù)據(jù)
A3 計(jì)算每個(gè)子組的均值(X)和極差(R)
A4 選擇控制圖的刻度
A5 將均值和極差畫到控制圖上
A1選擇子組大小、頻率和數(shù)據(jù)
子組大小
使各樣本之間出現(xiàn)變差的機(jī)會(huì)小
在過程的初期研究中,子組一般由4~5件連續(xù)生產(chǎn)的產(chǎn)品的組合,僅代表一個(gè)單一的過程流。
子組頻率
在過程的初期研究中,通常是連續(xù)進(jìn)行分組或很短的時(shí)間間隔進(jìn)行分組
過程穩(wěn)定后,子組間的時(shí)間間隔可以增加。
子組數(shù)的大小
一般>100個(gè)單值讀數(shù),>25個(gè)子組









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